Di tengah tekanan sanksi ketat dari Amerika Serikat yang membatasi akses ke teknologi semikonduktor canggih, China dilaporkan mencapai pencapaian signifikan dalam industri chip global. Perusahaan manufaktur chip terbesar di China, Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), berhasil memproduksi chip canggih dengan fabrikasi 5 nanometer (nm) tanpa menggunakan mesin litografi ekstrem ultraviolet (EUV) buatan Belanda.
Keberhasilan ini menjadi sorotan karena mesin EUV selama ini dianggap esensial dalam pembuatan chip sekelas 5nm. Laporan dari GizmoChina mengungkapkan bahwa SMIC mencapai terobosan ini melalui pendekatan teknis yang berbeda dan kompleks, yakni dengan memanfaatkan teknologi litografi deep ultraviolet (DUV) yang dipadukan dengan metode Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP). Metode ini dikenal lebih rumit, mahal, dan berisiko tinggi, namun terbukti mampu menghasilkan chip 5nm yang fungsional.
Teknologi DUV dan EUV sendiri merupakan dua jenis teknologi litografi berbasis cahaya yang digunakan dalam manufaktur semikonduktor untuk mencetak pola sirkuit pada wafer silikon. Perbedaan utama terletak pada panjang gelombang cahaya yang digunakan.
DUV menggunakan panjang gelombang yang lebih tinggi (sekitar 193 nanometer), sementara EUV menggunakan panjang gelombang yang lebih pendek (sekitar 13,5 nanometer). Panjang gelombang yang lebih pendek pada EUV memungkinkan pencetakan fitur yang lebih halus dan ukuran chip yang lebih kecil, mendukung miniaturisasi perangkat secara ekstrem.
Analis semikonduktor William Huo memaparkan detail terobosan SMIC ini melalui serangkaian cuitan di platform X/Twitter. Huo menjelaskan bahwa SMIC menggunakan teknik multi-patterning ekstrem berbasis DUV untuk menggantikan peran EUV, yang aksesnya dibatasi oleh pemerintah AS dan sekutunya.
SMIC menerapkan metode SAQP untuk meniru presisi litografi EUV, meskipun prosesnya jauh lebih kompleks dan melibatkan banyak tahapan litografi dan etsa dengan tingkat akurasi serta ketelitian tinggi.
SMIC sendiri telah masuk dalam daftar hitam “entity list” AS sejak Desember 2020, yang secara efektif melarang akses langsung ke teknologi AS untuk produksi chip dengan arsitektur 10 nm atau lebih canggih. Larangan ini juga mencakup penggunaan mesin extreme ultraviolet lithography (EUV) produksi ASML Belanda, yang sedianya digunakan untuk memproduksi chip 7 nm atau yang lebih canggih. (***)